Verfahren zur Bildung eines Films aus Organischem Siliciumoxid, Film aus Organischem Siliciumoxid, Verdrahtungsstruktur, Halbleitervorrichtung und Zusammensetzung für die Filmbildung

EP1746123 Art A1 24. Januar 2007

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1746123
Aktenzeichen: EP05739243
Anmeldetag: 11. Mai 2005
Veröffentlichung: 24. Januar 2007
Rechtsraum: EP
IPC: C09D183/14B05D5/12B05D7/24C08G77/50C09D5/25C09D7/12C09D183/02C09D183/04C09D183/08H01B3/46H01L21/312C08L83/14H01B3/30C08G77/48H01L21/3105H01L21/316// C08G77/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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