Erzeugung einer Siliziumoxynitridschicht auf einem Dielektrischen Material mit Hohem K
EP1747581
Art A1
31. Januar 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1747581
- Aktenzeichen
- EP05749300
- Anmeldetag
- 12. Mai 2005
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/314C23C16/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
655
Patente gesamt
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