Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1754111
Art A1
21. Februar 2007
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1754111
- Aktenzeichen
- EP05768800
- Anmeldetag
- 2. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Schwanhäusser, Gernot
Stuttgart, Deutschland
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