Herstellung von 1-(Alkoxysilyl)ethyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxan
EP1754708
Art B1
28. Mai 2008
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1754708
- Aktenzeichen
- EP06254280
- Anmeldetag
- 15. August 2006
- Veröffentlichung
- 28. Mai 2008
- Erteilung
- 28. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07F7/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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