Fluiddruckkompensation für eine Immersionslithographielinse
EP1756663
Art B1
16. Dezember 2015
Anmelder: Nikon Corporation, NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1756663
- Aktenzeichen
- EP04814940
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 16. Dezember 2015
- Erteilung
- 16. Dezember 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03B27/42G03B27/52G03B27/58G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nikon Corporation
NIKON CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Wiebusch, Manfred
Bielefeld, Deutschland
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Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München