Unterdrucksystem für die Immersionsfotolithographie
EP1756672
Art B1
14. April 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Edwards Limited, The BOC Group plc 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1756672
- Aktenzeichen
- EP05747245
- Anmeldetag
- 6. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 14. April 2010
- Erteilung
- 14. April 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20B01D57/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Edwards Limited
The BOC Group plc - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Clark, Charles Robert
NoneWest
-
Booth, Andrew Steven
NoneWest