Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmedium und Herstellungsverfahren dafür

EP1757712 Art B1 4. August 2010

Anmelder: Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1757712
Aktenzeichen
EP05719882
Anmeldetag
3. März 2005
Veröffentlichung
4. August 2010
Erteilung
4. August 2010
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/34C04B35/50G11B7/24G11B7/26
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nippon Mining & Metals

Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.

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