Zusammensetzungen für Rapid Prototyping
EP1757979
Art B1
12. Dezember 2012
Anmelder: Cmet Inc., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1757979
- Aktenzeichen
- EP05255276
- Anmeldetag
- 26. August 2005
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2012
- Erteilung
- 12. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00G03F7/075C08L83/04C08L83/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Cmet Inc.
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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