Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1760530
Art B1
12. Oktober 2011
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1760530
- Aktenzeichen
- EP06254320
- Anmeldetag
- 17. August 2006
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2011
- Erteilung
- 12. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon