Dynamisches Fluidregelsystem für die Immersionslithographie
EP1761822
Art A2
14. März 2007
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1761822
- Aktenzeichen
- EP05749274
- Anmeldetag
- 18. Mai 2005
- Veröffentlichung
- 14. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03B27/42G03B27/58G21G5/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Vertreten von
Wiebusch, Manfred
Bielefeld, Deutschland
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