Gaas-Substratreinigungsverfahren, Gaas -Substratherstellungsverfahren, Herstellungsverfahren für ein Epitaxialsubstrat und Gaas-Wafer

EP1763071 Art A1 14. März 2007

Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1763071
Aktenzeichen: EP05734547
Anmeldetag: 25. April 2005
Veröffentlichung: 14. März 2007
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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