Verfahren zur Erzeugung von Resistprofilen
EP1763707
Art B1
12. Oktober 2011
Anmelder: Giesecke & Devrient GmbH, Vistec Electron Beam GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1763707
- Aktenzeichen
- EP05717163
- Anmeldetag
- 30. März 2005
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2011
- Erteilung
- 12. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01J37/317G11B11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Giesecke & Devrient GmbH
Vistec Electron Beam GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Giesecke+Devrient Mobile Security
Deutsche Tochtergesellschaft von Giesecke+Devrient mit Sitz in München. Das Unternehmen entwickelt Sicherheitstechnologien für mobile Kommunikation, SIM-Karten, Zahlungs- und Identifikationslösungen.
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Vertreten von
Reichert, Werner Franz
Wetzlar, Deutschland
423
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18
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