Verwendung einer positiven Resist-Zusammensetzung für Immersions-Lithographie, positive Resist-Zusammensetzung und immersions-lithographische Strukturierungsmethode mit Benutzung derselbigen

EP1764647 Art B1 17. August 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1764647
Aktenzeichen: EP06017164
Anmeldetag: 17. August 2006
Veröffentlichung: 17. August 2011
Erteilung: 17. August 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/029G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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