Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP1764652 Art B1 22. Oktober 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1764652
Aktenzeichen: EP06019196
Anmeldetag: 13. September 2006
Veröffentlichung: 22. Oktober 2014
Erteilung: 22. Oktober 2014
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/075G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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