Prisma zur Benutzung in einer lithografischen Vorrichtung
EP1764655
Art A3
19. September 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1764655
- Aktenzeichen
- EP06026407
- Anmeldetag
- 4. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 19. September 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/04G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon