Vorrichtung und Verfahren zum Messen des Strahlwinkels und der Normal-Eben-Divergenz von Gescanntem Strahl oder Bandstrahl
Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1766655
- Aktenzeichen
- EP05772494
- Anmeldetag
- 7. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 28. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/304H01J37/244
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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Fachgebiete
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