Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung unter Verwendung derselben

EP1767991 Art B1 17. April 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1767991
Aktenzeichen: EP06019989
Anmeldetag: 25. September 2006
Veröffentlichung: 17. April 2013
Erteilung: 17. April 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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