Positiv arbeitende Resistzusammensetzung für einen Immersionsbelichtungsprozess und Verfahren zur Herstellung von Strukturen unter deren Verwendung

EP1767992 Art A1 28. März 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1767992
Aktenzeichen: EP06019574
Anmeldetag: 19. September 2006
Veröffentlichung: 28. März 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/075G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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