Vorrichtung mit Prozessgas Zuführendem Gasverteilerelement und Hochfrequenzstrom für die Plasmaverarbeitung
EP1769101
Art A2
4. April 2007
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1769101
- Aktenzeichen
- EP05732428
- Anmeldetag
- 11. April 2005
- Veröffentlichung
- 4. April 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
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3
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Weitere Vertreter
-
Morf, Jan Stefan
NoneMünchen