Verfahren zur Strukturformung und Resistzusammensetzung dafür

EP1770440 Art B1 12. Februar 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1770440
Aktenzeichen: EP06020399
Anmeldetag: 28. September 2006
Veröffentlichung: 12. Februar 2014
Erteilung: 12. Februar 2014
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von