Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1770445
Art A1
4. April 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1770445
- Aktenzeichen
- EP06076807
- Anmeldetag
- 29. September 2006
- Veröffentlichung
- 4. April 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Holding N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
van Loon, C.J.J
NoneDen Haag