Substratverarbeitungsverfahren

EP1770765 Art B1 27. März 2013

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1770765
Aktenzeichen: EP06019564
Anmeldetag: 19. September 2006
Veröffentlichung: 27. März 2013
Erteilung: 27. März 2013
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/311H01L21/3105H01L21/768H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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