Halbleiterbauelement mit Oxidhalbleiterschicht und zugehöriges Herstellungsverfahren
EP1770788
Art A3
21. September 2011
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1770788
- Aktenzeichen
- EP06019112
- Anmeldetag
- 12. September 2006
- Veröffentlichung
- 21. September 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/786H01L21/77
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
4.187 Patente in unserer Datenbank