Werkzeug zur Modellierung einer Molekularen Kontaminationsschicht

EP1771723 Art B1 5. September 2018

Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1771723
Aktenzeichen
EP04796630
Anmeldetag
28. Oktober 2004
Veröffentlichung
5. September 2018
Erteilung
5. September 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G01N21/88
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Raytheon Company
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Raytheon Company

US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.

3.397 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen