Extrem-Uv-Licht-Retikelschutz
EP1771770
Art A1
11. April 2007
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1771770
- Aktenzeichen
- EP05775034
- Anmeldetag
- 21. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 11. April 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03B27/42G03B27/52G03B27/62F26B5/04H01L21/302
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
5.286 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Siegert, Georg
München, Deutschland
452
Patente gesamt
33
Fachgebiete
22
Anmelder-Länder
Schwerpunkte