Verfahren und Anordnung zur Prognose von thermisch induzierten Substratdeformationen
EP1775635
Art B1
30. Mai 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1775635
- Aktenzeichen
- EP06122153
- Anmeldetag
- 12. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2012
- Erteilung
- 30. Mai 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag