Ätzverfahren für Mesaisolierung von Halbleiterstrukturen mit Antimonbasierter Verbindung

EP1776714 Art A2 25. April 2007

Anmelder: Northrop Grumman Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1776714
Aktenzeichen
EP05803227
Anmeldetag
22. Juli 2005
Veröffentlichung
25. April 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/306
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Northrop Grumman Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Northrop Grumman

US-amerikanischer Rüstungs- und Luftfahrtkonzern mit Sitz in Virginia, tätig in den Bereichen Verteidigungselektronik, Flugzeugbau, Raumfahrt und Cybersicherheit.

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