Lithographische Vorrichtung mit einer Gasdusche
EP1777590
Art B1
5. Dezember 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1777590
- Aktenzeichen
- EP06076909
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2012
- Erteilung
- 5. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Seitz, Holger Fritz Karl
Rijswijk, Niederlande
152
Patente gesamt
24
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
- (deleted)
-
Maas, Abraham Johannes
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Loon, C.J.J
NoneDen Haag