Systeme und Verfahren zur Verringerung des Einflusses von Plasmaerzeugten Fremdkörpern auf die Internen Komponenten einer Euv-Lichtquelle
EP1779410
Art B1
30. April 2014
Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1779410
- Aktenzeichen
- EP05775431
- Anmeldetag
- 15. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 30. April 2014
- Erteilung
- 30. April 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C25F1/00G03F7/20H05G2/00// G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cymer, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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