Verspanntes Silizium auf Isolator durch Anodisierung einer Vergrabenen P+-Silizium-Germanium-Schicht
EP1779423
Art A1
2. Mai 2007
Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1779423
- Aktenzeichen
- EP05752768
- Anmeldetag
- 27. Mai 2005
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- International Business Machines Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
12.049 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Gascoyne, Belinda Jane
Winchester, Großbritannien
306
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Bell, Mark
NoneLa Gaude