Verfahren zur Herstellung eines Verdrahtungssubstrats eines Halbleiterbauteils mit Aussenkontaktanschlussflecken für Aussenkontakte

EP1779428 Art B1 27. Mai 2015

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1779428
Aktenzeichen
EP05770056
Anmeldetag
20. Juli 2005
Veröffentlichung
27. Mai 2015
Erteilung
27. Mai 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L23/498H01L23/00H05K1/02H05K1/11
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.872 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen