Neuartige Fluorohydroxyalkylsulfonsäuresalze und Derivate, Generatoren von Photosäure, Resistzusammensetzungen, sowie Musterübertragungsverfahren
EP1780199
Art B1
1. Februar 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1780199
- Aktenzeichen
- EP06255508
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 1. Februar 2012
- Erteilung
- 1. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C309/08G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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