Kompensation der Doppelbrechung in kubisch kristallinen Projektionslinsen und optischen Systemen
EP1780570
Art A3
2. Januar 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1780570
- Aktenzeichen
- EP07002163
- Anmeldetag
- 31. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B13/24G02B27/00G02B5/00G03F7/20G02B5/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
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