Teilchenstrahlsystem mit Anordnung zur Korrektur von Abbildungsfehlern höherer Ordnung
EP1780763
Art B1
29. September 2010
Anmelder: JEOL LTD., JEOL Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1780763
- Aktenzeichen
- EP06255493
- Anmeldetag
- 25. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 29. September 2010
- Erteilung
- 29. September 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/153
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JEOL LTD.
JEOL Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JEOL
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.
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Vertreten von
Cross, Rupert Edward Blount
London, Großbritannien
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