Plasmaverarbeitungseinrichtung und Verfahren
EP1780777
Art A1
2. Mai 2007
Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1780777
- Aktenzeichen
- EP05753490
- Anmeldetag
- 21. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
Wiedemann, Peter
München, Deutschland
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-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München