Plasma-Zusammensetzung für die selektive Ätzung von dielektrischen Schichten mit hoher Dielektrizitätskonstante

EP1780780 Art A3 17. Dezember 2008

Anmelder: IMEC, INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC) 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1780780
Aktenzeichen: EP06123197
Anmeldetag: 30. Oktober 2006
Veröffentlichung: 17. Dezember 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC)
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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