Verfahren zur Bildung einer Halbleiterregion des P-Typs und Halbleiterelement
EP1783824
Art A1
9. Mai 2007
Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1783824
- Aktenzeichen
- EP05768364
- Anmeldetag
- 2. August 2005
- Veröffentlichung
- 9. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/268H01L33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Electric Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Electric Industries
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.
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