Aktive Lichtempfindliche Struktur mit Eingelassener Sperrschicht
EP1784865
Art A1
16. Mai 2007
Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1784865
- Aktenzeichen
- EP05793073
- Anmeldetag
- 30. August 2005
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/146H01L31/112
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Vertreten von
Maury, Richard Philip
St. Albans, Großbritannien
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