Verfahren zum Herstellen von ersten und zweiten unterschiedlichen, aktiven Halbleiterzonen und Verwendung für die Herstellung von CMOS-Strukturen
Anmelder: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives, STMICROELECTRONICS S.A., ST MICROELECTRONICS S.A., COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1786026
- Aktenzeichen
- EP06354035
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 31. Juli 2013
- Erteilung
- 31. Juli 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
STMICROELECTRONICS S.A.
ST MICROELECTRONICS S.A.
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE - Land
- 🇫🇷 Frankreich
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
3.785 Patente in unserer Datenbank
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
5.929 Patente in unserer Datenbank