Silicium enthaltende antireflektive Beschichtungszusammensetzung, Silicium enthaltende antireflektive Beschichtung, Substrat prozessierende Zwischenschicht und Substrat prozessierende Methode
EP1788012
Art B1
8. April 2009
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1788012
- Aktenzeichen
- EP06255863
- Anmeldetag
- 16. November 2006
- Veröffentlichung
- 8. April 2009
- Erteilung
- 8. April 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/48C09D183/14G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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