Verwendung von basischen Carbonaten zum Reduzieren des Druckverformungsrestes in additionsvernetzenden Silikonzusammensetzungen
EP1788032
Art B1
14. November 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1788032
- Aktenzeichen
- EP06255822
- Anmeldetag
- 14. November 2006
- Veröffentlichung
- 14. November 2012
- Erteilung
- 14. November 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08L83/04C08L83/07C09J183/04C08G77/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Hallybone, Huw George
London, Großbritannien
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