Siliziumhaltige filmbildende Zusammensetzung und Substratverarbeitungsverfahren
EP1788433
Art B1
9. Juli 2014
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1788433
- Aktenzeichen
- EP06255862
- Anmeldetag
- 16. November 2006
- Veröffentlichung
- 9. Juli 2014
- Erteilung
- 9. Juli 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/075G03F7/09G03F7/11H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
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Fachgebiete
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