Nachbearbeitungsverfahren für Photoresistfilm
EP1788437
Art B1
23. Dezember 2009
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Shinetsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1788437
- Aktenzeichen
- EP06255764
- Anmeldetag
- 9. November 2006
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2009
- Erteilung
- 23. Dezember 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/40G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Shinetsu Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Thomson, Craig Richard
Glasgow, Großbritannien
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