Material zur Bildung eines Resistschutzfilms und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters damit
EP1788438
Art A1
23. Mai 2007
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1788438
- Aktenzeichen
- EP05767298
- Anmeldetag
- 29. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/039G03F7/20G03F7/38H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Perin, Georges
Paris, Frankreich
55
Patente gesamt
20
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Cabinet Plasseraud
Cabinet Plasseraud · Paris