Resistzusammensetzung für Elektronenstrahlen oder Euv (extrem-Ultraviolett) und Prozess zur Erzeugung von Resiststrukturen
EP1791024
Art A1
30. Mai 2007
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1791024
- Aktenzeichen
- EP05781331
- Anmeldetag
- 1. September 2005
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/029
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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