Verfahren zur Messung der Temperatur einer Wärmeplatte, Vorrichtung zur Substratverarbeitung und Computerprogramm zur Messung der Temperatur einer Wärmeplatte
EP1791166
Art B1
6. Juli 2011
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1791166
- Aktenzeichen
- EP05768853
- Anmeldetag
- 8. August 2005
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2011
- Erteilung
- 6. Juli 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Tokyo Electron Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München