Ausrichtungsverfahren, Entwicklungssystem, Substratlade-Wiederholbarkeits-Messverfahren, Positionsmessverfahren, Belichtungsverfahren, Substratverarbeitungsvorrichtung, Messverfahren und Messvorrichtung
EP1791169
Art A1
30. Mai 2007
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1791169
- Aktenzeichen
- EP05777070
- Anmeldetag
- 30. August 2005
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027G03F7/20H01L21/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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WP Thompson
Bereits 1873 gegründet, eine der traditionsreichsten britischen Patent- und Markenkanzleien mit Büros in London, Liverpool und Cardiff. Begleitet von der Anmeldung bis zur Verwertung, einschließlich Litigation vor dem Einheitlichen Patentgericht.
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