Verfahren zur Vermeidung oder Verringerung der Verschmutzung eines Immersionsprojektors und ein lithografisches Immersionsgerät
EP1793276
Art A3
3. Oktober 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1793276
- Aktenzeichen
- EP06077040
- Anmeldetag
- 17. November 2006
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Weenink, Willem
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Loon, C.J.J
NoneDen Haag