Strahlungssystem und lithografische Vorrichtung
EP1793277
Art B1
14. Oktober 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1793277
- Aktenzeichen
- EP06077059
- Anmeldetag
- 20. November 2006
- Veröffentlichung
- 14. Oktober 2009
- Erteilung
- 14. Oktober 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G21K1/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Loon, C.J.J
NoneDen Haag