Positive Resistzusammensetzung, Verfahren zur Musterbildung unter Verwendung der positiven Resistzusammensetzung, Verwendung der positiven Resistzusammensetzung

EP1795960 Art B1 5. Juni 2019

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1795960
Aktenzeichen: EP06025353
Anmeldetag: 7. Dezember 2006
Veröffentlichung: 5. Juni 2019
Erteilung: 5. Juni 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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